FI-RXF100-RE
產品簡介
紅外發射光譜(Infrared Emission Spectroscopy)是一種直接、無損地獲取(qǔ)物質材料光譜信(xìn)息的紅外檢測手段,是對紅外透射、紅外反射、衰減全反射(ATR)、漫反射等測量方式的有效補充。由於材料自身就(jiù)是紅外的(de)發射源,因此發射光譜應用(yòng)領域比較(jiào)廣,如不適合做透射測量的物質表麵、強腐蝕性且不透光(guāng)的樣品、發射光源的光譜特征、體積較大的物體、距離較遠的目標、超高溫樣(yàng)品的光譜(pǔ)特性(xìng)、等離子體的發射測量等。
黑體 IR-563/301 的技(jì)術參數

卓(zhuó)立漢光自主設計的獨立式(shì)傅裏(lǐ)葉變換紅外發射光譜(pǔ)儀,該(gāi)光譜儀(yí)集成專門的發射平台(tái),可以安裝各種不同的發射附件和參考黑體,滿足不同溫度(dù)下不同材料的表征需求。光譜儀主機(jī)配置雙檢測器位(wèi)置,方便用戶隨時進(jìn)行多(duō)個檢測器的(de)切換測(cè)量。靈活的光路設計,用戶可以選(xuǎn)擇(zé)聚焦(jiāo)光(guāng)路(lù)或者平行光路來適合不(bú)同的樣品。此外,FI-RXF100-RE 也可(kě)以更換內部的光學(xué)元器件,使測量譜區擴展到近紅外波段,滿足近紅外光源的發射測量。
發射光譜的測量方式及注意事項,視樣品形態(tài)的不(bú)同而有所差別。對於薄(báo)膜(mó)樣品,可以將薄膜擔載在金屬基底上進行測(cè)量,以減少基底的輻射;製備樣(yàng)品的厚度不能太大或者(zhě)氣體濃度不能太高(gāo),防止樣品自吸收造成的譜圖發形;如果背景的輻射較強,在計算(suàn)樣品發射率(lǜ)時,需要考慮將背景的發射(shè)強度扣除後,才能得到準確的結果;如果樣品在測量過程(chéng)中釋放出氣體,用戶需要考慮(lǜ)在發射裝置上增(zēng)加吹(chuī)掃,以減少氣體(tǐ)對譜(pǔ)圖的影響。
產品應用(yòng)領域
產品特點
幹涉儀:高*邁克爾遜(xùn)幹涉儀,光路永*準直,穩定性極佳,10 年質量保證
固態激光器(qì):性能穩定(dìng),使用壽命達 10 年以上
發射源:聚焦光(guāng)路,用戶的樣品或者熱源或者黑體(tǐ)
分束(shù)器:ZnSe 材質分束器和(hé) ZnSe 窗片,防止(zhǐ)光學器件潮解(可(kě)選 KBr、石英分束器)
檢測器:內置雙檢(jiǎn)測器位置,可選(xuǎn)擇常(cháng)溫檢測器或者(zhě)低溫 MCT、銦镓砷,可以實現軟件自動切換
光路設計(jì):專用的發射光路設計,簡潔緊湊,降低輻射損(sǔn)失(shī),提高輻(fú)射通量
發射附件:可定製各種附件滿足客戶的實(shí)際測試需求
產品技術參數
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光譜範圍 |
標準範圍 500 ~5000 cm-1 (可選 400-7500cm-1、400-10000cm-1、戒擴展到近紅外 12500 cm-1) |
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光譜分辨率 |
優於 2 cm-1,通常使用 8 cm-1 |
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測量方式 |
將(jiāng)樣品(pǐn)放置在聚(jù)焦點,可以選擇不同的溫控儀或者黑體 |
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工作條件 |
工作溫(wēn)度:-5~40℃;工作濕度:0 ~100%R.H. |
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電源(yuán) |
100~240VAC ,50~60Hz, 20W; |
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重量 |
12kg |
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尺寸 |
44 cm×33 cm×18cm(W×D×H;含發射(shè)擋板) |
對(duì)於室溫下的物質的紅(hóng)外(wài)發射測量,www.91光提供了另(lìng)外一(yī)種解決方(fāng)案。通過 FI-RXF 係列傅裏葉變換(huàn)紅外光譜儀主(zhǔ)機和反(fǎn)射附件或者積分球附件,測(cè)量得到材料的反射光譜。根據基爾霍夫定律(lǜ)和能量守(shǒu)恒定理,我們可以非常(cháng)方(fāng)便(biàn)地獲(huò)得室溫下不(bú)透明材料的發射率。詳細解決方案可以谘詢www.91光的(de)應用工程師。
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