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MAPS-LBIC係列多功能光電流掃描成(chéng)像係(xì)統

光電流掃描成像:通過2D位移台逐(zhú)點掃描方式,對(duì)樣品進(jìn)行光電流強度分布成像。此功能僅需將(jiāng)係統標配的磁吸樣品台替換為電學樣品台,再配合相(xiàng)應(yīng)的源表,鎖相放大器(qì),前置(zhì)放大器等外置(zhì)設(shè)備即可實(shí)現。此(cǐ)外,配合Waynelabs3 的電動化(huà)組件(jiàn),可支持自定義更多功能,如本(běn)頁的掩(yǎn)模版掃描成像功能
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產品概述
多功能光電流掃描成像係統(tǒng)
 
Waynelabs3 微區(qū)架構兼容各類樣平台,與電學測量(liàng)係統整可開展光(guāng)電流(liú)掃描成像測(cè)試。光電流響應的測試流程為(wéi):激發光經斬波後(或直接通過外部TTL調製),再經分(fèn)束鏡物鏡引入到樣品上(shàng);通過源表外加偏壓使(shǐ)樣品上每(měi)一點(diǎn)產生光電流信號,將其接入鎖相放大器采(cǎi)集信號;
光電流掃描成像:通過2D位移台逐點掃描方式,對樣品進行光電流強度分布成像。此功能僅(jǐn)需將係統標配的磁吸樣品台替換為電學樣品台,再配合(hé)相應的源表,鎖相放大(dà)器,前置放大器等外置設備即可實現。此外(wài),配合Waynelabs3 的電動化組(zǔ)件,可支持自定義更多(duō)功能(néng),如本頁的掩模版掃描成像功能。
 
係統原理示意圖
*此圖僅(jǐn)作(zuò)為原理示意,以實際為準
基本功能
 
· 單點激(jī)發測光(guāng)電流響應及Mapping;
· 電動(dòng)變功(gōng)率及變偏振的光電流測量;
· 配備常溫及低溫、氣氛電學樣品台;(可選)
· 可增配激發光調製模塊(激光投影/寬場激發/矢量光入射等)
 
多功能光電流(liú)掃描成像係統應用(yòng)場景
主要用於表征光電材料及器(qì)件的光電流響應及強度分布
· 光電探(tàn)測器的量子效率;
·  器件的電阻分布特征;
· 太(tài)陽能電池光生電流的分布特性;
· 器件光吸收及光生電荷(hé)的(de)分布特性;
· 半導體(tǐ)結區/界麵的電荷分布等。
 
典型(xíng)數據圖
多功能光電流掃描成像(xiàng)係(xì)統(tǒng)典型參數配置
 
測試光源:寬譜光(guāng):400 - 1100 nm(標配(pèi));400 - 2000 nm(可(kě)選(xuǎn)) 激光:375 - 1064 nm (選配)
空間分辨率: < 1 mm
電動位(wèi)移行程:50 mm × 50 mm × 40 mm
掃描精度: < 1 mm,步進最小 0.04 mm
偏振控製(zhì): 電動(可選(xuǎn))
光路(lù)切換方式:電動,軟件控製
物(wù)鏡(jìng)組: 5X,10X,20X,50X,100X可見光物鏡;其它(tā)物鏡可定製
照明光源: 高顯色LED麵光源
信號采集: 16路(lù)插(chā)入式芯片(piàn)及配套插(chā)座;16路單獨(dú)可控(kòng)接地盒(hé);前置放(fàng)大探頭,鎖相放大器
軟件(jiàn)功能:移(yí)動視場,切(qiē)換物鏡,對焦,框選掃描區域均可用鼠標直接(jiē)在圖像顯示窗口操作(zuò);電(diàn)動功率調整;自動化(huà)光路模式切換;自動化Mapping;自動化偏振Mapping;實時處理與顯(xiǎn)示數據
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